当前位置 :
(2009•浙江)单晶硅是信息产业中重要的基础材料.通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅
更新时间: 2025-08-30 08:59:21
1人问答
问题描述:

(2009•浙江)单晶硅是信息产业中重要的基础材料.通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅.以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.

相关信息如下:①四氯化硅遇水极易水解;

②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

③有关物质的物理常数见下表:

物质SiCl4BCl3AlCl3FeCl3PCl5
沸点/℃57.712.8-315-
熔点/℃-70.0-107.2---
升华温度/℃--180300162
请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl- 加热 .

Mn2++Cl2↑+2H2O

MnO2+4H++2Cl- 加热 .

Mn2++Cl2↑+2H2O

(2)装置A中g管的作用是______;装置C中的试剂是______;

装置E中的h瓶需要冷却的理由是______.

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是______(填写元素符号).

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O

①滴定前是否要滴加指示剂?______(填“是”或“否”),请说明理由______.

②某同学称取5.000g残留物后,经预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液,移取25.00mL试样溶液,用1.000×10-2 mol/LKMnO4标准溶液滴定.达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00mL,则残留物中铁元素的质量分数是______.

李国鸿回答:
  (1)装置A是氯气发生装置,A中的离子方程式为MnO2+4H++2Cl- 加热 . Mn2++Cl2↑+2H2O;故答案为:MnO2+4H++2Cl- 加热 . Mn2++Cl2↑+2H2O;(2)浓盐酸有挥发性,故分液漏斗要加盖,加...
最新更新
优秀化学推荐
热门化学
保卡通(baokatong.com)汇总了汉语字典,新华字典,成语字典,组词,词语,在线查字典,中文字典,英汉字典,在线字典,康熙字典等等,是学生查询学习资料的好帮手,是老师教学的好助手。
声明:本网站尊重并保护知识产权,根据《信息网络传播权保护条例》,如果我们转载的作品侵犯了您的权利,请在一个月内通知我们,我们会及时删除。
Copyright©2009-2021 保卡通 baokatong.com 版权所有